本發明公開了一種蒸鍍設備及蒸鍍控制方法,包括真空腔體和位于真空腔體內部的坩堝;可移動擋板,所述可移動擋板在坩堝內部與坩堝上表面平行設置,用于盛放蒸鍍材料;氣壓監測裝置,所述氣壓監測裝置與所述真空腔體連接;氣壓傳動裝置,所述氣壓傳動裝置分別與所述氣壓監測裝置和所述可移動擋板連接,用于控制所述可移動擋板在坩堝內部向上或向下移動。通過在蒸鍍設備中增設可移動擋板、氣壓監測裝置和氣壓傳動裝置,由氣壓監測裝置和氣壓傳動裝置通過無縫精密聯動控制,來改變可移動擋板在坩堝內的移動方向和移動距離,以維持蒸汽壓強不變,達到蒸鍍速率恒定的目的,以避免溫度變化帶來對蒸鍍材料的影響,確保蒸鍍膜層光特性不失效。
聲明:
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