本申請提供了一種光罩以及光罩或晶圓沾污的檢測方法。該光罩包括版圖,版圖包括對準標記,對準標記的個數不少于三個。在進行晶圓的光刻時,光刻機根據不少于三個的對準標記處的光罩膨脹系數與光罩旋轉系數計算出晶圓的光罩膨脹系數與光罩旋轉系數,這樣得出的晶圓的光罩膨脹系數與光罩旋轉系數更加準確,能夠及時、靈敏地反應出晶圓或光罩的沾污問題,進而避免了由于沾污造成器件失效需要返工的問題,提高了器件的產率及良率。
聲明:
“光罩以及光罩或晶圓沾污的檢測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)