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CMOS后工藝集成高效率雙向光柵耦合器

1139   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:59:25
CMOS后工藝集成高效率雙向光柵耦合器，包括一個雙向光柵耦合器，由一個用于垂直耦合的均勻光柵和兩個模式轉換器組成，均勻光柵作為單模光纖的垂直耦合接口，模式轉換器用于連接雙向光柵耦合器兩側多模光波導與單模光波導，實現無損耗光傳輸及模式轉換；一個雙介質包層，位于雙向光柵耦合器上方，用于抑制對入射光的向上反射；一個CMOS?IC芯片，作為CMOS后工藝的襯底，其中位于CMOS?IC芯片表面、雙向光柵耦合器底部的金屬焊盤作為雙向光柵耦合器的襯底反射鏡；一個二氧化硅隔離層，位于CMOS?IC芯片和雙向光柵耦合器之間，作為雙向光柵耦合器下包層；一個環形金屬對準標記，位于雙介質包層上方，環繞在雙向光柵耦合器周圍，用于測試時對單模光纖進行對準。
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“CMOS后工藝集成高效率雙向光柵耦合器” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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