本發明公開了一種氣體擴散器清洗工藝及清洗輔助設備,涉及化學氣相沉積裝置清洗技術領域。本發明的一種氣體擴散器清洗工藝及清洗輔助設備,包括一次剝離→二次剝離→研磨→噴砂→化學拋光→OVEN烘干→出庫檢查→包裝;未剝離干凈的氣體擴散器進行二次剝離,所述二次剝離包括濕式噴砂→高壓水洗,通過采用濕式噴砂去除局部殘留,減少藥液浸泡,避免孔徑擴張,以保證氣體擴散器孔徑擴張量
聲明:
“氣體擴散器清洗工藝及清洗輔助設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)