本發明公開了一種智能清洗薄膜沉積腔室的方法及系統,該系統包括采集模塊、處理分析模塊和清洗模塊;采集模塊通過傅里葉紅外光譜儀采集腔室內部含硅元素化學鍵的紅外光譜圖;處理分析模塊根據紅外光譜分析結果得出含硅元素化學鍵的實際強度值,通過比較實際強度值與預設強度值的大小,處理分析模塊做出是否需要清洗腔室的指示,清洗模塊針對各個含硅元素化學鍵進行清洗工作。本發明提供的智能清洗薄膜沉積腔室的方法及系統,保證腔室在工作狀態下保持實時的清潔環境,有效地控制每片晶圓在工藝過程中腔室環境的一致性,顯著提升薄膜沉積設備在連續晶圓生產中的工藝穩定性。
聲明:
“智能清洗薄膜沉積腔室的方法及系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)