本實用新型涉及一種液態化學品溫控供應系統,包括至少一個化學品儲存室和至少一個反應腔,每個化學品儲存室均對應設置有化學槽循環加熱管路,所述化學槽循環加熱管路輸出端通過第一傳輸管路與各所述反應腔連通;各所述第一傳輸管路中均設置有第一加熱器和第一溫度偵測計,且所述第一溫度偵測計設置于所述第一傳輸管路與所述反應腔相連接的一端的端口處;實現液態化學品到達各反應腔時的溫度與從化學槽循環加熱管路輸出時的溫度一致。本實用新型還涉及一種晶圓刻蝕清洗設備,其能有效提高產品的工藝穩定性。
聲明:
“液態化學品溫控供應系統及晶圓刻蝕清洗設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)