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液態化學品溫控供應系統及晶圓刻蝕清洗設備

1170   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
2023-03-19 07:00:50
本實用新型涉及一種液態化學品溫控供應系統,包括至少一個化學品儲存室和至少一個反應腔,每個化學品儲存室均對應設置有化學槽循環加熱管路,所述化學槽循環加熱管路輸出端通過第一傳輸管路與各所述反應腔連通;各所述第一傳輸管路中均設置有第一加熱器和第一溫度偵測計,且所述第一溫度偵測計設置于所述第一傳輸管路與所述反應腔相連接的一端的端口處;實現液態化學品到達各反應腔時的溫度與從化學槽循環加熱管路輸出時的溫度一致。本實用新型還涉及一種晶圓刻蝕清洗設備,其能有效提高產品的工藝穩定性。
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