本發明屬于薄膜生長監測技術領域,公開了一種化學氣相沉積監控系統及方法,薄膜材料放置于化學氣相沉積裝置內;光學成像檢測裝置包括飛秒脈沖激光器、第一柱面透鏡、第一虛擬成像相位陣列、第一衍射光柵、第一顯微物鏡、第二顯微物鏡、第二衍射光柵、第二虛擬成像相位陣列、第二柱面透鏡、單模光纖、光電探測器、高速示波器。本發明通過光學成像檢測裝置實時監測薄膜材料的生長過程,快速、實時獲得薄膜材料生長過程信息,通過與樣品數據庫數據進行對比,實時調整生長工藝參數以提高薄膜的生長質量。解決了現有技術中化學氣相沉積設備不能做到快速、實時監控薄膜生長狀態的問題,達到了能夠快速、實時獲得薄膜材料的生長信息的技術效果。
聲明:
“化學氣相沉積監控系統及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)