本發明涉及電機材料制備技術領域,尤其涉及一種0D / 2D納米層狀結構Si?RGO復合材料的制備方法,通過混合、封端、制備SiNPs分散液、涂布、沖壓、熱處理等步驟制取得到納米層狀結構Si?RGO復合材料,利用本方法制造出的Si?RGO復合材料均勻,緊湊,機械強度高,能量密度高,同時該方法無粘結劑的加入,節約了成本。
聲明:
“0D / 2D納米層狀結構Si-RGO復合材料的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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