本發明公開了一種基于液相外延法生長鐵氧體單晶厚膜的高溫退火方法,屬于磁性功能材料技術領域,該方法包括:以GGG或SGGG為襯底,采用液相外延法制備百微米級鐵氧體單晶厚膜,在惰性氣體、氧氣混合氣氛下進行階梯式升降溫退火處理,再經酸煮、清洗得到表面光滑平整的鐵氧體單晶厚膜;經本發明退火處理的單晶厚膜厚,介電損耗、鐵磁共振線寬、光損耗降低,累積應力得以釋放,使單晶膜質量得以顯著提升。
聲明:
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