本申請涉及真空鍍鋁膜的技術領域,具體公開了一種雙面真空鍍鋁膜工藝,包括以下制備步驟:步驟一、制備鋁材;步驟二、制備復合膠液,并向基材上涂覆復合膠液,隨后進行加熱同時進行輻照處理,直至將水分蒸干,制得基膜;步驟三、一次真空蒸鍍:鍍層厚度為800?1000埃,得到單面鍍鋁膜;步驟四、將單面鍍鋁膜置于鍍鋁鼓上復卷一次;步驟五、二次真空蒸鍍:鍍層厚度為500?600埃,得到雙面鍍鋁膜;步驟六、將雙面鍍鋁膜進行細化處理:先將雙面鍍鋁膜均勻冷卻至50?65℃,然后加熱至150?200℃,保溫2?3min,加熱過程中采用輻照處理,自然冷卻后,得到雙面鍍鋁膜成品。通過本申請制得的雙面鍍鋁膜,其阻隔性好,鍍層的附著力佳,產品抗撕裂強度高。
聲明:
“雙面真空鍍鋁膜工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)