本實用新型涉及一種高溫反應燒結爐,尤其涉及一種半導體、冶金及其它行業的熱處理真空工藝處理中應用的高溫反應燒結爐。其結構由爐體、反應室、送料裝置與旋轉裝置和廢氣處理裝置組成;本實用新型所述的高溫反應燒結爐,在原有爐體結構中增加了反應室,反應室位于爐體內部,與爐腔分開;可以節約工藝氣體,不會在爐壁上產生結晶,影響高溫燒結爐的性能。在送料裝置上增加了旋轉裝置,使工件在處理過程中持續旋轉,讓工件受熱均勻,與工藝氣體接觸均勻,提高產品質量。又增加了廢氣處理裝置,對產生的廢氣進行處理,減少對環境制成的污染。
聲明:
“高溫反應燒結爐” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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