本發明公開了一種ODS金屬薄膜材料的制備方法,即首次采用磁控濺射的方法,通過改變金屬靶材的結構,在Ar氣氛中將金屬基復合靶材進行濺射、沉積,從而在基底上實現ODS彌散強化金屬薄膜材料的制備。本發明的ODS金屬薄膜制備方法一方面可有效克服傳統粉末冶金等方法復雜的工藝過程和在制備過程中會出現氧化物團聚、分布不均、金屬晶粒粗大等問題,另一方面可有效克服傳統磁控濺射制備ODS薄膜中氧化物添加不可控,且需要雙靶同時濺射等復雜工藝。實現具有納米量級晶粒尺寸的ODS強化金屬基薄膜的制備,實現了氧化物在金屬基材料中均勻、可控地添加。
聲明:
“ODS金屬薄膜材料的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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