本發明提供一種平面TEM樣品的制作方法,包括:提供TEM樣品,所述TEM樣品上具有目標區域;對所述TEM樣品進行平面研磨至金屬互連層;對所述TEM樣品進行截面研磨至TEM樣品的邊緣距離目標區域2-10微米;采用第一溶液去除金屬互連層中的金屬線,在所述金屬互連層從中形成孔洞;采用第二溶液去除所述孔洞下方的源漏摻雜區域;使用FIB方法對所述TEM樣品進行制作,形成平面TEM樣品,所述平面TEM樣品露出孔洞下方的源漏摻雜區域用于失效分析。本發明能夠解決平面TEM上無法觀察源漏摻雜區域的難題。
聲明:
“平面TEM樣品的制作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)