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集成電路結構及其形成方法

1032   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
2023-03-19 08:56:51
本發明提供了一種集成電路結構及其形成方法,集成電路結構包括襯底;層間介質層,形成于所述襯底上,所述層間介質層中形成有開口;擴散阻擋層,所述擴散阻擋層覆蓋所述開口的側壁和底壁;導電結構,填充于所述開口中,且所述導電結構的頂面高度低于所述擴散阻擋層的側壁的頂面高度;刻蝕停止層,覆蓋所述層間介質層的頂面、所述導電結構的頂面、所述擴散阻擋層的頂面和所述擴散阻擋層的部分側壁。通過利用化學機械研磨的工藝在研磨到擴散阻擋層時,增加過研磨工藝中研磨導電材料層的時間,去除所述開口內預定高度的導電材料層,增加后續的蝕刻停止層與所述擴散阻擋層側壁附著的表面積,使蝕刻停止層更牢靠,降低測試中刻蝕停止層剝離的風險。
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