提供一種裝置和方法,該裝置和方法用于在化學氣相沉積反應室內提供充分均勻的襯底溫度。該方法和裝置利用一個基架(110)固定反應室內的襯底(160),以及將多個加溫元件(120,130,140)安置成能加熱該基架和襯底。襯底高溫計(138,139)測量襯底的溫度以提供一個表示加工溫度的信號。該信號用在反饋回路(151,134,132)中,控制一個或多個加溫元件。提供至少兩個對準在基架不同區域的基架高溫計(126,136,146)。比較來自基架高溫計的信號以提供一個不均勻溫度的指示。該指示用于一個單獨的反饋回路(149,124,122)內,調整其他的加溫元件,以保持基架上溫度的均勻性。
聲明:
“控制襯底溫度均勻性的裝置和方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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