本實用新型提供一種對稱四電極體系邊界限制型電解池裝置,包括電解池池體、電解池封蓋、工作電極、兩個輔助電極、參比電極和兩個隔片。本實用新型通過簡單地改進普通三電極電解池裝置,即對稱設置輔助電極和隔片等,將電解池溶液中粒子的運動空間最大可能地進行限制,形成兩個對稱的邊界限制型的有效溶液區域,從而使得工作電極極片上的沉積層(或鍍層、發生化學反應層)的正反兩面同一對應位置的厚度相同,同時同一面上的不同區域也相同,極大的提高了沉積層(鍍層、化學反應層)的均勻性。本實用新型可用于電化學沉積、電鍍、電泳沉積和電化學測試等領域。具有試驗結果重復性、均勻性好,裝置的操作性強、適用性廣的特點。
聲明:
“對稱四電極體系邊界限制型電解池裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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