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Ⅲ族氮化物器件的制作方法以及由其制作的器件

1099   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 00:15:03
一種制作至少一個半導體器件的方法，它包括下 列步驟：提供一個鋁酸鋰(LiAlO2) 的犧牲性生長襯底；鄰近犧牲性生長襯底形成至少一個包括III 族氮化物的半導體層；將安裝襯底與犧牲性生長襯底相反地固 定到至少一個半導體層附近；以及清除犧牲性生長襯底。此方 法還可以包括將至少一個接觸與安裝襯底相反地加入到至少 一個半導體層的表面上，并將安裝襯底和至少一個半導體層分 割成多個獨立的半導體器件。為了制作最終的器件，此方法還 可以包括將各個獨立的半導體器件的安裝襯底鍵合到熱沉。清 除犧牲性襯底的步驟可以包括對犧牲性生長襯底進行濕法腐 蝕。
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