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c軸取向鈮酸鋰晶體薄膜的制備方法

920   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 21:57:58
本發明提供了一種c軸取向鈮酸鋰晶體薄膜的制 備方法，該方法是采用脈沖激光沉積，以非晶SiO2薄膜作為緩沖層在硅單晶襯底上生長c軸取向LiNbO3晶體薄膜，其步驟如下：首先采用熱氧化技術在硅襯底上生長出非晶SiO2薄膜；然后以氧化后的硅為襯底，以等化學計量比LiNbO3多晶陶瓷或富鋰LiNbO3多晶陶瓷為靶材，放入脈沖激光沉積設備的真空室中，靶材與襯底之間距離在3－5cm，通入高純氧氣進行沉積，氧壓保持在10－50Pa，激光頻率在1－7Hz，沉積溫度在500℃－650℃，生長c軸取向LiNbO3晶體薄膜。本發明方法制備工藝簡單，所得LiNbO3晶體薄膜具有良好的c軸擇優取向性。
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