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半導體脈沖功率開關及其制備方法

1003   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 15:00:02
本發明公開了一種半導體脈沖功率開關及其制備方法。開關由晶閘管單元p+npn+和晶體管單元n+npn+相間排列而成，陽、陰極側均設有Al電極；其陰極側的n+發射極的摻雜濃度為1×1020～1×1022cm－3，結深為15～25μm，晶體管單元n+npn+內的位于開關的陽極側的n+發射極的摻雜濃度為1×1020～1×1022cm－3，結深為15～25μm，晶閘管單元p+npn+的p+發射極摻雜濃度為8×1017～5×1018cm－3，結深為1～5μm。本發明采用的可減小開通電壓的薄發射極RSD結構，包括減薄p+發射區寬度和降低p+發射區摻雜濃度兩方面。本發明在n型Si襯底上進行Al燒結，形成RSD薄發射極的陽極結構。與現有薄發射極形成工藝相比，本發明保證了薄發射極不在后續工藝中被破壞，并且降低了對設備的要求，節省了工序，并且不會引起RSD陰極面反型。
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真空冶金
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