本發明公開一種ITO鍍膜靶材的制備方法,涉及鍍膜技術領域,包括銦錫氧化物制備、混合氧化物配方、添加粘合劑和燒結等工藝步驟。本發明,工藝設計科學、合理,靶材靶材密度合適,均勻性好,制備方便,生產效率高,節約成本,作用安全、可靠,用于鏡片鍍膜,不開裂,性能穩定,附著性好,形成的鍍膜具有很好的均勻性、導電性和透明性,可以有效切斷對人體有害的電子輻射、紫外線及藍光,確保產品質量。
聲明:
“ITO鍍膜靶材及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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