本實用新型公開了一種氯化鎂凈化除雜裝置,屬于冶金生產技術領域。解決了現有技術中海綿鈦、低價物等細小顆粒物隨氯化鎂一起進入電解槽,降低電解槽的生產效率和使用壽命的問題。本實用新型包括與還原反應器底部固定連接的第一筒體(2)、第二筒體(3)和第三筒體(5),所述第三筒體(5)位于第二筒體(3)的內部,所述第二筒體(3)位于第一筒體(2)的內部,所述第一筒體(2)、第二筒體(3)和第三筒體(5)上部均開設有凹槽,所述第三筒體(5)的下端與還原反應器的出料口連通,所述第一筒體(2)、第二筒體(3)和第三筒體(5)的頂部設置有無孔篩板(7)。本實用新型提高了電解槽的生產效率,延長了電解槽的使用壽命。
聲明:
“氯化鎂凈化除雜裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)