本發明涉及靶材生產制備領域,具體而言,涉及一種鍺銻碲化合物相變材料濺射靶材生產方法。包括:將質量分數為13%~16%的鍺,22%~25%的銻,60%~64%的碲混合,組成原料;對原料進行真空熔煉處理,得到GeSbTe金屬化合物;將GeSbTe金屬化合物進行粉末冶金處理,得到干燥的GeSbTe粉末;將干燥的GeSbTe粉末進行真空熱壓燒結處理,得到鍺銻碲相變材料濺射靶材。本發明中的鍺銻碲相變材料濺射靶材生產方法,將利用真空熔煉方法,完成鍺銻碲所形成穩定化合物制成粉末,使之成分均勻;后將該粉末放入熱壓機進行高壓燒結,形成致密的靶材。用該工藝,解決了粉末成分可能出現不均,或密度不高的技術問題。
聲明:
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