1.本發明涉及石英砂提純技術領域，具體涉及一種高純石英砂的提純方法。
背景技術：
2.石英玻璃是sio2單一組分玻璃，具有高純度、化學穩定、光譜透過寬、抗熱沖擊、耐高溫變形、耐射線輻照、電絕緣等優越的物理化學性能，因而廣泛用于航天、微電子、光電子、電光源等領域，隨著對高純石英玻璃材料(高純石英砂)需求的不斷增長，而原礦石——天然水晶資源卻日漸枯竭，遠不能滿足現代高科技工業發展需求，促使人們探索用石英礦石替代水晶作為石英玻璃原料礦種。
3.石英晶體中的微觀缺陷，置換si4+的堿金屬粒子形成的(oh-)—羥基和微小氣液包裹體，其體積是納米尺寸。由于石英玻璃制備工藝要求原料粉的粒度0.1mm，石英晶體的微觀缺陷包裹于粉體內部，而通常非金屬礦加工技術浮選、磁選、酸浸等只能消除石英粉料的表面雜質，不能消除石英顆粒內的微觀缺陷。因此石英晶體中難消除的微觀缺陷決定著石英玻璃原料純度。該缺陷延伸到石英玻璃，導致石英玻璃氣泡、羥基的形成，從而難以制造透明的石英玻璃。
4.現有工藝技術難以消除此類缺陷，目前主要采用酸堿差異腐蝕法、氯化脫氣法和熱爆裂法來除去包裹體，實驗證明這些方法對去除石英顆粒內的羥基和氣液包裹體效果非常有限。因此，石英顆粒中的羥基和氣液包裹體的去除，是實現石英礦替代水晶制取高純石英砂的關鍵。
技術實現要素：
5.本發明的目的在于提供一種高純石英砂的提純方法，以期解決背景技術中存在的技術問題。
6.為了實現上述目的，本發明采用以下技術方案：
7.一種高純石英砂的提純方法，包括以下步驟：
8.步驟1：真空脫羥
9.將石英精砂送入高溫真空脫羥爐，維持一定的溫度和負壓；
10.步驟2：熱氯除雜
11.將脫羥處理后的石英砂導入熱氯除雜裝置，通入cl2至爐膛內維持常壓或微正壓，使氯氣與石英砂顆粒表面雜質充分反應生成氯化物氣體；打開真空系統將雜質氣體排除排盡，通入氮氣驅趕殘留氯；
12.步驟3：超純水清洗
13.將熱氯除雜后的石英砂卸入流動水槽經砂漿泵輸送至石英砂清洗機采用超純水清洗；
14.步驟4：脫水干燥
15.將清洗干凈的石英砂送至高速轉鼓離心機，脫水至水分含量《5％，然后輸送至迴
轉式石英玻管干燥爐干燥，在溫度200－700℃的條件下，得到出料水分含量小于0.1％的石英砂，干燥后的石英砂純度為4n5－4n8，不含羥基和氣液包裹體。
16.
聲明：
“高純石英砂的提純方法與流程” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：成都光華科技發展有限公司
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2025年08月05日 ~ 07日 
