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鋨膜的電鍍制備方法

1319   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:57:04
本發明公開了一種厚度在1微米以上的鋨膜及其制造方法。該方法通過在玻璃基片上用PVD法鍍鉻膜，再在鉻膜上用PVD法鍍一層導電系數高、化學穩定性好的金膜，然后在金膜上電鍍鋨膜而成。電鍍分次進行、從而使鋨膜厚度達到1微米以上。本發明的鋨膜可用于制備空間原子氧環境探測器，解決了傳統的PVD方法淀積鋨膜容易發生開裂現象以及鋨層鍍不厚問題。
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“鋨膜的電鍍制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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