本實用新型涉及沉管對接領域,特別是一種沉管和最終接頭基礎后注漿模型,以及對應的模塊和系統,一種沉管基礎后注漿模型包括:鎖定回填部,所述鎖定回填部設置在沉管下方的大壟溝和小壟溝的兩端,用于封堵大壟溝和小壟溝的兩端開口;阻擋部件,所述阻擋部件設置在所述大壟溝兩側的小壟溝內,用于填充小壟溝,針對現有技術存在的問題,現提出了一種在沉管安裝過程中異常沉降時調整沉管姿態和高度,以及安裝完成后,解決碎石墊層或碎石墊層下的地質結構發生沉降所引起的沉管接頭處的穩定性和使用壽命的問題,同時使沉管在使用過程中對載荷的承載效果更優的沉管接頭基礎后注漿方法,而本申請則為對應實現該注漿方法的沉管基礎后注漿模型。
聲明:
“沉管和最終接頭基礎后注漿模型,以及對應的模塊和系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)