權利要求
1.充填下料裝置，其特征在于包括頂部敞開且呈直桶狀的上箱體，固定在此上箱體底部的且呈倒錐臺狀的下箱體，設置在所述上箱體和下箱體結合部位的格篩，固定在此格篩上的導流錐，設置在所述上箱體頂部的進料管，設置在所述上箱體頂部的供水管，設置在所述下箱體底部的出料管，設置在此出料管頂部的排氣止旋器，
所述的導流錐與所述的上箱體和下箱體同心布置，
所述的進料管末端伸入所述上箱體的內腔，
所述的供水管呈“Q”型，所述的供水管包括從所述上箱體側壁垂直伸入所述上箱體內腔的前端管，沿環向固定于所述上箱體內壁上的環形管，設置在此環形管底部沿環形均布的數個出水孔，設置在每個出水孔上的高壓清洗噴嘴，
所述的出料管與所述的下箱體同心布置，
所述的排氣止旋器與所述的出料管同心布置，所述的排氣止旋器包括頂板，貫穿此頂板中心的排氣管，設置在所述頂板下且繞所述排氣管均布的數個擋板，此擋板垂直于所述頂板底面和排氣管的管壁。
2.根據權利要求1所述的充填下料裝置，其特征在于所述的下箱體的錐角α為60°~120°。
3.根據權利要求1所述的充填下料裝置，其特征在于所述的數個出水孔至少為8個。
4.根據權利要求1所述的充填下料裝置，其特征在于所述的高壓清洗噴嘴為0°~65°扇形水流噴嘴，所述高壓清洗噴嘴的水壓為0.2MPa~0.25MPa，所述高壓清洗噴嘴的水流量大于等于2L/s~4.8L/s。
5.根據權利要求1所述的充填下料裝置，其特征在于所述的導流錐的底面直徑大于所述的排氣止旋器的頂板的直徑。
6.根據權利要求1所述的充填下料裝置，其特征在于所述的出料管的管內徑與所述的進料管的管內徑相同。
7.根據權利要求1所述的充填下料裝置，其特征在于所述的排氣管的管內徑=（1/6~1/4）×出料管的管內徑。
8.根據權利要求1所述的充填下料裝置，其特征在于所述的數個擋板至少為4個，每個擋板的斜邊與所述排氣管中心線夾角β=1/2α。
9.利用充填下料裝置的填充下料方法，其特征在于包括如下步驟：
（1）充填下料前，先開啟供水管，浸潤充填下料裝置內壁及下游管道；
（2）下料的同時關閉供水管，充填料漿通過進料管進入上箱體，經導流錐導流后，沿導流錐向四周均勻流淌，并經格篩篩除大塊兒或雜物，然后進入下箱體，再經排氣止旋器各擋
聲明：
“充填下料裝置及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：中冶北方（大連）工程技術有限公司
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2025年07月23日 ~ 26日 
