權利要求書： 1.一種無測量裝置可連續控制電解液深度的電解池，包括電解池本體(1)，其特征在于：所述電解池本體(1)的側壁開設有電解液調節觀察室(4)，所述電解液調節觀察室(4)中安裝有電解液調節裝置和電解液控制裝置；所述電解液調節裝置包括與電解池本體(1)連通的儲液筒(5)，所述儲液筒(5)中設置有與儲液筒(5)滑動連接的活塞(6)，所述活塞(6)遠離電解池本體(1)的一端固定連接有穿過儲液筒(5)和電解液調節觀察室(4)沿伸至電解液調節觀察室(4)外的活塞軸(8)。2.根據權利要求1所述的無測量裝置可連續控制電解液深度的電解池，其特征在于：所述電解池本體(1)的內底面積是儲液筒(5)活塞(6)前端面積的整數倍。3.根據權利要求2所述的無測量裝置可連續控制電解液深度的電解池，其特征在于：所述電解池本體(1)的內底面積是儲液筒(5)活塞(6)前端面積為的10倍。4.根據權利要求1所述的無測量裝置可連續控制電解液深度的電解池，其特征在于：所述電解液控制裝置包括與活塞軸(8)固定連接的千分尺(9)。5.根據權利要求4所述的無測量裝直可連續控制電解液深度的電解池，其特征在于：所述電解液調節觀察室(4)的側壁上設置有用于固定千分尺(9)的定位支架。6.根據權利要求1所述的無測量裝置可連續控制電解液深度的電解池，其特征在于：所述儲液筒(5)采用PFA塑料制成。7.根據權利要求6所述的無測量裝置可連續控制電解液深度的電解池，其特征在于：所述儲液筒(5)的筒身設置有刻度線，所述刻度線的分度值為10μm。8.根據權利要求1所述的無測量裝置可連續控制電解液深度的電解池，其特征在于：所述電解液調節觀察室(4)側壁上開設用于觀察電解液調節裝置的工作狀態的觀察窗(10)。9.一種無測量裝置可連續控制電解液深度的電解池的電解液深度調節方法，應用權利要求1所述的一種無測量裝置可連續控制電解液深度的電解池，其特征在于，包括：S1、在電解池本體(1)的載物臺中放置待加工件，向電解池本體(1)中加入電解液(2)至代加工件表面；S2、轉動千分尺(9)，調節電解池中電解液(2)的高度。10.根據權利要求9所述的一種無測量裝置可連續控制電解液深度的電解池的電解液深度調節方法，其特征在于：所述S2中千分尺(9)轉動一圈，電解池本體(1)中的電解液(2)下
聲明：
“無測量裝置可連續控制電解液深度的電解池及其調節方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
1081
編輯：管理員
來源：常熟市新達模塑成型有限公司
分享 0
舉報 0
收藏 0
反對 0
點贊 0
2025年07月24日 ~ 26日 
